表面活性剂CMC的化学发光法测定

第L期 H 甩 化 学 工 业 一 分折方法一 表面活性剂CMC的化学发光法测定 中国科技大学 吕小虎 陆明刚 车文选用鲁采诺和光泽精两十化学发光体系攫f定了表面活性剂T 、C'fAB、STAB SDS~ L-- 醇辛 基苯基醚(乳化剂OP)的CMC，所得结果与文献报道值一致。 Abstract： The CMC of surfactants，such ag TPB，CTAB，STAB， SDS and PolyvthYleneg- lycol octyl phenyl—ether，Wei'e determined by Iuminol and luC chin chemiluminescenc~ syst— em,and the results 0btaine ct a怫 the same aS that of previous reports． 化学发光(cL)是指利用化 学 反 应释放 的能蔓硬 生激发态，然后放出光子。 表面活性剂可以敏化或抑制化学发光反应， 从而使化学发光强度增 n或减弱(i·2) 根 据被敏化或被抑镧的化学发光强度与表面活 性剂浓度的关系曲线，可以铡定表面活性剂 的临界胶束浓度(cMc)。与其它方 法比较． 本法具有简便、快速等优点 一 ． 基本原理 在化学发光体系中加入某种表面活性剂 (浓度为C)，发光强度(I)可以被增强或减 弱。表面活性剂浓度改变时，对化学发光的 敏化或抑制怍用也发生变 化。作logI—logc 曲线，曲线的转折点所对应的浓度即为该表 面活性剂的cMcj若转折点 不 明 显，可将 所得曲线绘制两条相应的切线，其交点所对 应的浓度印为该表面括性剂的CMC =、实验部分 1．主要仪器 YHF一 1型液相化学发光分 析 仪(西安 无线电八厂)，XWT一106型台式平 衡 记 录 仪(上海大华仪表厂)，25型酸 度 计(上海雷 磁仪表厂)。 2．试剂。 碱性鲁米诺贮 备 溶 液{1．0×10～M， 配制在0．05M的氢氧 化 钠 溶 液中，避光保 存J光泽精贮备 溶 液：1．0×10 M，H2O 贮备溶液：1．0M；CIO一贮备溶 液：0．5M， 以NaC10溶 液 配 制，用 碘 量 法 标 定 其浓 度(3)}Fe”贮 备 溶 液： 1mg／ml~表面活 性剂溴代十四烷基吡啶(TPB)、溴代十 六烷 基三甲胺 CTAB)和溴代十八 烷 基 三 甲 胺 (STAB)贮备溶液的浓度均为J．0×10一M； 十二烷基躜酸钠(SDS)贮 备 溶 液 0．1M 乳化剂oPE：备溶液浓 度 为10 Wt。由它们 的贮备溶液可配成各自的稀溶液。 3．实验方法 (1)用鲁米诺体系测定CTAB和乳 化剂 OP的CMC 充分清洗发光仪的反应池后， 由其左进 样 口加入 2 ml碱性鲁米诺溶液(5×10～M， pH：12．7)， 1 mm,O 溶液(4×10 M)和 Iml燕馏水或某一浓度的表面括性剂~CTAB 戎乳化荆OP)，混台{再由右进样贮 管向反 应池中加入 1 mlFe”溶液(1．0×10～g／m1)， 此时便产生化学发光，由记录仪分 q记录表 面活性剂存在时和其不存和时的化学发光动 力学曲线。曲线的峰高代表化学发光强度 I (相对单位) 作logI~logC曲 线(C为 表 面 活性剂的浓度)，该曲线的转折点所 对 应l柏 浓度即为所铡表面活性剂的CIVIC (2)用光泽精发光体系测定TPB、STAB 维普资讯 http://www.cqvip.com 日 用 化 学 工 业 和SDS的CMC。 操作同(1)。向 反 应 池 中 加 入 2 ral 5×10一 M的光泽精溶液、lml蒸馏水 或Iml待 钡I表面活性剂，再向其 中 加 入Iml 0．3M的 H oz溶液，混合。最后向反应池中注 入 1 ml l×t0 M掬CIO一溶液，产生的化学发光分 刖由记录仪记录。其它操作同(1)。 三、结果与讨论 1．表 面 活 性 剂 CTAB和 乳 化 剂OP的 CM C 用鲁米诺发光体系．依据实验方法(1)， 分别测定CrAB或乳化剂OP存 在 和 不 存在 时的化学发 光 强 度，作Iogr--logC曲线(图 1)，结果 为lCTAB的CMC为1．3×10—5M， 乳化剂oP的CMC为0．025 wt。文献[‘]报 道乳化剂OP的CMC为O．02] w 文献[1] 报 道CTAB的CMC为 9．0×l0 M， 而 文 献[5)报 道CTAB的CMC为 4×10一M。由 (1)CTA~ (2)乳化帮OP．渡度为重量 百分比渡度 疆 l 鲁米诺体系化学发光强度与表面 活性 浓度的关系曲线 比可知，用本法测得的乳 化 剂OP的CMC值 与文献吻台，CTAB的CMC测定值位于文献 懂范围内． 2．表 面 活 性 剂TPB、STAB和 sDs构 CM C 用光泽精发光体系 铡 定TPB、STAB和 SD$的CMC，所 得 的logi~logC曲 线 见 图 2，由此所得表而活 性 剂 的CMC俊硎于衰 ；9 i目9●簟 (1)sDs (2)TPB (3)s TAB 圈 酋 光泽精体 系化学发光强度与表面 活性剂浓度的关系曲线 袭 1 表面活性荆cMc的测定结果 由表 l结果知，用化学发光法所测得的 表面活性剂的CMC值与文献值基奉一致。 3．结论 通过应用化学发光挂测定一些表面活性 荆的CMC可以看出，所述方法比 较 简 便， 而且测定结果准确。它既可用于离子型表面 搪 性 荆(如CTAB、STAB，SDS等)的C．MC 的测定，也可用于非离子型表面 活 性荆(如 乳化荆OP)的CMC的测定。 参 考 文 献 (1) Masaakl Yama~ll and ShiIetaka Suzukit ^na1．Lett．，17(A4)， 251[1蚺●)． (2)W L．Hlnz~，et-1．．^nil_Chcm．，s6(12~ 21S0(1$a4)． (3)陆晦捌辱，环城科学与棱赤· 4·1s(1988)． f 4)戚文彬．t表面活性帮与分析(艺学 ·．中翻 计量出版挂，1=3(1987) (5)挪用幕．‘艘摩塔溶分光光度法反应帆理托探讨 · 地屡 出版社．1Bf1g80) 【6 I L K lopf a啊 T．^ ．N ~cm en·Ana ．Chem ． 5 (8)，15；9(】9s{)， 维普资讯 http://www.cqvip.com