为了正常的体验网站,请在浏览器设置里面开启Javascript功能!
首页 > 2-椭圆偏振法测量薄膜厚度

2-椭圆偏振法测量薄膜厚度

2010-09-12 13页 pdf 440KB 129阅读

用户头像

is_167239

暂无简介

举报
2-椭圆偏振法测量薄膜厚度 1 椭圆偏振法测量薄膜厚度、折射率和金属复折射率 椭圆偏振法简称椭偏法,是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原 理由于数学处理上的困难,直到本世纪 40 年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量 经过几十年来的不断改进,已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测,极大地 促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级),测 量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于 0.1nm 的厚度变化)。利用椭偏法可以测量薄膜的 厚度和折射率,也可以测定材料的吸收系...
2-椭圆偏振法测量薄膜厚度
1 椭圆偏振法测量薄膜厚度、折射率和金属复折射率 椭圆偏振法简称椭偏法,是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原 理由于数学处理上的困难,直到本世纪 40 年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量 经过几十年来的不断改进,已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测,极大地 促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级),测 量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于 0.1nm 的厚度变化)。利用椭偏法可以测量薄膜的 厚度和折射率,也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此,椭偏法在 半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。 通过实验,读者应了解椭偏法的基本原理,学会用椭偏法测量纳米级薄膜的厚度和 折射率,以及金属的复折射率。 一、实验原理 椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线偏振光经取向一定的 1/4 波片后成为特 殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品面时,只要起偏器取适当的透光方向,被待测样品 表面反射出来的将是线偏振光。根据偏振光在反射前后的偏振状态变化(包括振幅和相位的 变化),便可以确定样品表面的许多光学特性。 2 , 其中 (3.5.2) 设待测样品是均匀涂镀在衬底上的透明同性膜层。如图 3.5.1 所示,n1,n2 和 n3 分别为 环境介质、薄膜和衬底的折射率,d是薄膜的厚度,入射光束在膜层上的入射角为 ,在 薄膜及衬底中的折射角分别为 和 。按照折射定律有 (3.5. 1 ) 光的电矢量分解为两个分量,即在入射面内的 P 分量及垂直于入射面的 S 分量.根据折 射定律及菲涅尔反射,可求得 p分量和 s 分量在第一界面上的复振幅反射率分别为 而在第二界面处则有 , 从图 3.5.1 可以看出,入射光在两个界面上会有多次的反射和折射,总反射光束将是许多反 射光束干涉的结果。利用多光束干涉的理论,得 p 分量和 s 分量的总反射系数 3 是相邻反射光束之间的相位差,而 为光在真空中的波长。 光束在反射前后的偏振状态的变化可以用总反射系数比(RP/RS)来表征。在椭偏法 中,用椭偏参量 和 来描述反射系数比,其定义 (3.5.3) 分析上述各式可知,在 , ,n1 和 n3 确定的条件下, 和 只是薄膜厚度 d 和折射率 n 2 的函数,只要测量出 和,原则上应能解出 d 和 n2。然而,从上述各式却无法解析出 和 的具体形式。因此,只能先按以上各式用电子计算机算出在 , ,n1 和 n3 一定的条件下  ,  与 d,n 的关系图表,待测出某一薄膜的 和后再从 图表上查出相应的 d 和 n(n2)的值。 测量样品的 和 的方法土要有光度法和消光法.下面介绍用椭偏消光法确定 和 的基本原理.设入射光束和反射光束电矢量的 p 分量和 s 分量分别为 Eip,Eis,Erp 和 E rs,则有 , 于是 (3.5.4) 为了使 和 成为比较容易测量的物理量,应该设法满足下面的两个条件: (1) 使入射光束满足 4 ; (2) 使反射光束成为线偏振光,也就是令反射光两分量的位相差为 0 或 。 满足上述两个条件时,有 (3.5.5) 其中 分别是入射光束和反射光束的 p 分量和 s 分量的位相。 图 3.5.2 是本实验装置的示意图。在图中的坐标系中,x 轴和 x'轴均在入射面内 且分别与入射光束或反射光束的传播方向垂直,而 y 和 y'轴则垂直于入射面。起偏器和检 偏透光轴 t和 t'与 x 轴和 x'轴的夹角分别是 P和 A。 下面将会看到,只需让 1/4波片的快轴 f 与 x 轴和的夹角为 ,便可以在 l/4 波后面得到所需的满足条件 的特殊椭圆偏振入射光束 . , 图 3.5.3 中的 E0 代表由方位角为 P的起偏器出射的线偏振光.当它投射到快轴与 x 轴夹角 为  的 l/4 波片时,将在波片的快轴 f 和慢轴 s 上分解为 5 通过 1/4 波片后,Ef 将比 Es 超前 ,于是在 1/4 波片之后应有 , 把这两个分量分别在 x轴及 y 轴上投影并再合成为 Ex 和 Ey,便得到 可见,Ex 和 Ey 也就是即将投射到待测样品表面的入射光束的 p 分量和 s 分量,即 6 , 显然,入射光束已经成为满足条件 特殊圆偏振光,其两分量的位相差为 由图 3.5.4 可以看出,当检偏器的透光轴 t'与合成的反射线偏振光束的电矢量 Er 垂 直时,即反射光在检偏器后消光时,应该有 (3.5.6) 7 (3.5.9) 从式(3.5.8)和式(3.5.9)可得到(P1,A1)和(P2,A2)的关系为 (3.5.1 0) 因此,在图 3.5.2 的装置中只要使 1/4 波片的快轴 f与 x 轴的夹角为 /4,然后测出检 偏器后消光时的起、检偏器方位角(P1,A1)或(P2,A2),便可按式(3.5.8)或式(3.5.9) 求出 ,从而完成总反射系数比的测量。再借助已计算好的  与 的关系图表,即 可查出待测薄膜的厚度和折射率。 这样,由式(3.5.5)可得 (3.5.7) 可以约定,A在坐标系(x',y')中只在第一及第四象限内取值。下面分别讨论 为 0 或  时的情形。 (1) ,此时的 P 记为 P1,合成的反射线偏振光的 Er 在第二及第四象限里,于 是 A 在第一象限并记为 A1.由式(3.5.7)可得到 (3.5.8) (2) ,此时的 P 记为 P2,合成的反射线偏振光 Er 在第一及第三象限里,于是 A 在第四象限并记为 A2,由式(3.5.7)可得到 8 附带指出,当 n1 和 n2 均为实数时, 也是 一 个实数.d0 称为—个厚度周期,因为从式(3.5.2)可见,薄膜的厚度 d每增加一个 d0,相 应的位相差 也就改变 2,这将使厚度相差 d0 的整数倍的薄膜具有相同的 值,而 与 关系图表给出的 都是以第一周期内的数值为准的,因此应根据其它方法来 确定待测薄膜厚度究竟处在哪个周期中.不过,一般须用椭偏法测量的薄膜,其厚度多在第 一周期内,即在 0 到 d0 之间.能够测量微小的厚度(纳米量级),正是椭偏法的优点. 用椭偏法也可以测量金属的复折射率.金属复射率 n2 可分解为实部和虚部,即 (3.511) 据理论推导(参见附录),上式中的系数 N,K 与椭偏角 和  有如下的近似关系: (3.5.12) 可见,测量出与待测金属样品总反射系数比对应的椭偏参量 和  有,便可以求出其复折 射率 n2 的近似值。 9 二、实验装置 椭偏测厚仪有:手动和自动两种.本实验使用华南师范大学物理系研制的 HST-1 型 多功能自动椭偏测厚仪.它的基本结构如图 3.5.5 所示.光源采用 635.0nm 的单模半导体激 光器,探测器是集成光电二极管.入射角在 30~90 度内连续可调,适用于不同衬底材料表面 的薄膜样品.整个过程可以由计算机自动完成,也可部分由手工操作. 三、实验内容 1、椭偏测厚仪的调节,按仪器说明书调节好起偏器、检偏器和 1/4 波片的位置.确定入射 角,如 70 度,放上样品,打开仪器主机电源和计算机电源,使仪器处于待测状态. 2、量硅(Si)衬底表面的 SiO2,薄膜厚度和折射率 n2。其中硅的复折射率取 3.85-0.02i, 10 空气折射率取 n1=1. 3、 量氧化锆(ZrO2)衬底表面上生长的超导薄膜厚度 d 和折射率 n2.其中 ZrO2 的折射率 取 2.1. 4、 测量金属铝或硅的复折射率 n2。 5、 进一步实验.改变入射角,使其等于 60 和 50 度.分别测量同一块薄膜样品(如 SiO2) 的厚度和折射率,并分析结果的相对误差和产生误差的原因, 6、 实验设计训练.若样品的薄膜厚度大于一个膜厚周期哒 d0,怎样测定其真实厚度?试 设计一个实验确定未知样品薄膜的膜厚周期和周期数. 11 (3.5.16) 四、思考与讨论 1、椭偏测厚仪设计的基本思想是什么?各主要光学部件的作用是什么? 2、试列举椭偏法测量中可能的误差来源,并分析它们对测量结果的影响。 附录:金属复折射率 n2 与椭偏参量 的关系 设光束从具有实折射率 n1 的物质中以入射角 入射复折射率为 n2 的金属表面, 在金属中的复折射角为 .据式(3.5.3)和式(3.5.1)以及前面关于复振幅反射率,总反射 系数和位相差的各表达式可得 以及 (3.5.13) 另一方面,直接使分母实数化并利用三角公式又会得到 (3.5.14) 比较上面二式便得到 (3.5.15) 设 12 则由式(3.5.16)和式(3.5.11),有 (3.5.17) 此外,据式(3.5.15)和式(3.5.16),又有 可见,只要在 n1 和 确定的条件下测量出椭偏参量 ,便可依次利用式(3.5.18)、(3. 5.16)、(3.5.17)以及(3.5.11)算出金属的复折射率 n2。 特别当 n22 的实部 时, 。 比较式(3.5.11)和(3.5.16)即可知道 这样,便从式(3.5.18)得到了 N,K 与椭偏参量 的近似关系式(3.5.12)。 参考文献 [1]P.M.A.Azzam and N.M.Bashara,ELLipsometry and Polariszed Light,North-Holland, Amsterdan. New York.Oxford,1977. [2]吴思诚、王祖铨主编,近代物理实验(第二版),北京,北京大学出版社,1995 [3]莫党,“椭圆偏振法-----测量薄膜与研究表面的新方法”,电子科学技术,No.2.1979 [4]母国光、战无龄,光学,北京,人民教育出版社,1978。黄佐华、周显光编 13 [5] http://wlsy.cug.edu.cn/zhidao/199.html [6} http://210.39.15.106/phys/physLab/showExperiment1.jsp?ID=144
/
本文档为【2-椭圆偏振法测量薄膜厚度】,请使用软件OFFICE或WPS软件打开。作品中的文字与图均可以修改和编辑, 图片更改请在作品中右键图片并更换,文字修改请直接点击文字进行修改,也可以新增和删除文档中的内容。
[版权声明] 本站所有资料为用户分享产生,若发现您的权利被侵害,请联系客服邮件isharekefu@iask.cn,我们尽快处理。 本作品所展示的图片、画像、字体、音乐的版权可能需版权方额外授权,请谨慎使用。 网站提供的党政主题相关内容(国旗、国徽、党徽..)目的在于配合国家政策宣传,仅限个人学习分享使用,禁止用于任何广告和商用目的。

历史搜索

    清空历史搜索