[笔记]破坏臭氧层物质清单

[笔记]破坏臭氧层物质 中山凯利电器有限公司 破坏臭氧层物质清单 序号 物质名称 通常涉及范围 我公司使用范 围 坐垫、床垫、汽车内饰、绝热建筑管材、板材等; 汽车、办公室 1. CFC-11 板材发泡剂; 透平式制冷机用制 冷剂; 烟丝膨 胀剂; PU 软泡; 箱式PU 软泡 PS 片材、PE 网管、棒等; 制冷剂; 其它空调设 办公室 2. CFC-12 备、冷冻冷藏和运输; 冷藏设备用制冷剂; PS/PE 挤出泡沫 清洗剂 冷气机 3. CFC-113 低温制冷设备 冷气机 4. CFC-114 氯物质(完 食品冻结设备 全卤化链5. CFC-115 , 烷) 电子医疗用低温设备 6. CFC-13 , 清洗剂 7. 四氯化碳CTC , 1,1,1-三氯乙烷(甲基氯清洗剂 8. , 仿，TCA) HCFC-22 9. , HCFC-141b 10. , 灭火系统生产 11. 哈龙 哈龙1301 , 灭火器生产、灭火系统生产 12. 哈龙1211 , CH3Br 13. 溴物质 , 空气 14. 二氧化碳(C02) 15. C0(一氧化碳) , 灯泡部 16. 甲烷(CH4) 碳化物 17. 非甲烷烃类物种 , 18. 氮化物 氧化亚氮(N2O) , 19. 氮氧化物(NOx) , 20. CH3Cl , CHF2Cl(CFC,22) 21. , 氯物质(部 分卤化链CH3CCl3 22. , 烷) CHFCl2(CFC,21) 23. , 空气 24. 氢物质 氢(H2) 生活区 25. 水 水(H2?) 编制: 审核: 破坏臭氧层物质特性 (a) 碳物质 一氧化碳(CO) 一氧化碳的重要来源是自然界和人类，据认为对对流层的光化过程有重要的直接作用，对平流层的光化过程则有间接作用。 二氧化碳(CO2) 二氧化碳的重要来源是自然界和人类，通过影响大气的热构造而影响到平流层的臭氧。 甲烷(CH4) 甲烷来自自然界和人类。对平流层和对流层的臭氧都有影响。 非甲烷烃类物种 非甲烷烃类物种含有许多化学物质，来自自然界和人类，对对流层的光化过程有直接作用，对平流层光化过程则有间接作用。 (b) 氮物质 氧化亚氮(N2O) 氧化亚氮主要来自自然界，不过人类来源也变得愈来愈重要。氧化亚氮是平流层NOx的主要来源，NOx对于平流层臭氧充裕的控制有重要作用。 氮氧化物(NOx) NOx的地平面来源，只对对流层的光化过程有直接的重要作用，对平流层的光化过程则有间接作用，而接近对流层顶的NOx注射可能对上对流层和平流层的臭氧直接引起变化。 (c) 氯物质 完全卤化链烷，例如CCl4，CFCl3(CFC,ll)，CF2Cl2(CFC,12)，C2F3Cl3(CFC,113)，C2F4Cl2(CFC,114) 完全卤化链烷来自人类，是ClOx的一个来源，对臭氧的光化过程有重要作用，尤其是在海拔30一50公里区域。 部分卤化链烷，例如CH3Cl，CHF2Cl(CFC,22)，CH3CCl3，CHFCl2(CFC,21) CH3Cl来自自然界，而上列其他部分卤化链烷则来自人类。这些气体也是平流层ClOx的来源。 (d) 溴物质 全部卤化链烷，例如CF3Br这些气体来自人类，是BrOx的来源，其作用类似ClOx。 (e) 氢物质 氢(H2) 氢是来自自然界和人类，对平流层的光化过程的作用不大。 水(H2?) 水来自自然界，对平流层和对流层的光化过程都有重要作用。平流层水蒸气的本地来源包括甲烷的氧化以及较小程度上氢的氧化。