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遮光剂——水溶性配方

2012-04-11 3页 pdf 139KB 34阅读

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遮光剂——水溶性配方 光 齐IJ 容性 西己方 ,31L.e~l桂 酰 和 甜 菜 碱 为 配 方 的 新 型 紫 外 线 吸 .^的 盐 型 水 溶 性 紫 外 线 吸 收 剂 更 具 亲 和 性 。 I酮 -4 更 好 的 色 彩 保 护 剂 。 Ni rm aI KOShti、 I Tanaji Jadhav介 绍 了这 种 新型 水溶 性 遮光 china 量资料表明皮肤和头发经阳 、 光直接照射会造成损伤。这种 损伤是非常严重的,特别是对于白 皙的皮肤。开始皮肤起红斑,然后 形成晒斑,最终可能导致产生...
遮光剂——水溶性配方
光 齐IJ 容性 西己方 ,31L.e~l桂 酰 和 甜 菜 碱 为 配 方 的 新 型 紫 外 线 吸 .^的 盐 型 水 溶 性 紫 外 线 吸 收 剂 更 具 亲 和 性 。 I酮 -4 更 好 的 色 彩 保 护 剂 。 Ni rm aI KOShti、 I Tanaji Jadhav介 绍 了这 种 新型 水溶 性 遮光 china 量资料明皮肤和头发经阳 、 光直接照射会造成损伤。这种 损伤是非常严重的,特别是对于白 皙的皮肤。开始皮肤起红斑,然后 形成晒斑,最终可能导致产生皮肤 癌⋯。阳光对于头发的损害也很严 重。太阳光的紫外辐射使头发变 脆、粗糙,且难于梳理。人的头发 一 旦受到紫外辐射,头发角蛋 白的 双硫键就会断裂,从而降低了头发 的抗张强度【2】。 目前有 15种能保护头发和皮 肤免受阳光损害的遮光剂已获批准, 但其中只有4种是水溶性的[31。水溶 性遮光剂特 别适用于护发配方 , 且在护肤配方中也能使用,特别是 在既用水溶性遮光剂又用非水溶性 遮光剂来提高防晒指数嘲的乳液产 品中。 目前所使用的水溶性遮光剂 是有机遮光酸的钠盐、钾盐或二乙 醇胺盐、三乙醇胺盐,如对 甲氧基 肉桂酸、水杨酸、2-苯基苯并咪唑- 5一磺酸、2一羟基一4一甲氧基苯甲酮一 5一磺酸(二苯甲酮一4)。虽然这4种 遮光酸 已被美国食品与药品监督管 理局列为1类产品,但只有二苯甲 酮一4获准广泛使用,包括在欧盟和 It本。 除了用作遮光剂外,二苯甲 酮 一4还在防晒化妆品中广泛用作 防护剂。因为这些遮光酸,或者是 磺酸盐或者是羧酸盐,它们就必然 会被 中和 (注意:有机遮光酸,如 对甲氧基肉桂酸、2一苯基苯并咪 唑一5-磺酸等是非水溶性的)。中和 后所形成的盐对于pH值的变化非 常敏感,有时它们会从配制的成品 中结晶出来 。另一个缺陷是在与 碱发生中和反应时总伴随着颜色的 改变。这些不足之处使它们在高防 晒指数产品中的应用中受到严重的 局限。 为了克服现有水溶性遮光剂 所带来的问题,成功研制了3一(N一 对甲氧基苯乙烯基丙基、N,N一二甲 基氨)一2一羟基丙烷-1一磺酸盐,其 INC1名为甲氧基苯乙烯基丙基羟基 甜菜碱,CAS号为 500731—87— 3t 。它是一种无色无味的水溶性 遮光剂,制备过程无需中和反应 (图1)。虽然它呈离子性,但是电 中性的 (内盐 ),故不需要中和,因 此也就不受pH值变化的影响。它 ●■■■■■■1 ,●1 ,●●j 维普资讯 http://www.cqvip.com 以50%的水溶液出售,其商品名 为Galaxy—SunBeat。 分析方法 这种不会发生水解的对甲氧 基苯乙烯基丙基羟基甜菜碱 是由 对甲氧基苯乙烯基丙基二甲胺和 3一氯一2一羟基丙烷磺酸钠合成的。 这种两性离子紫外线吸收剂在水 中的摩尔消光系数是24000(最 大波长处306nm,图2)。其干燥 样 品的红外光谱在 1 650cm 和 3300—3400cm。处明显出现两个 伸缩频率,分别为酰胺键的羰基 和NH键的特征。样品在质子磁共 振谱 (重水,300MHz)中的化学 位移是2.05(m,2H)、3.10—3.1 7 (m, 8H)、3.31~3.36(t,2H)、 3.41~3.64(m, 5H)、 3.78(S, 3H)、4.60—4.67(m,1H)、6.34 (d,1 H,J=15 Hz)、6.91(d,2H, J=9 Hz)、7.34(d,1H,J=15 Hz)、7.45(d,2H,J:9 Hz)。 使用离子对技术通过高效液 相色谱法可方便地确定样品的纯 度 。离 子对 采用 的流 动相 由 0.1 mol/L辛基磺酸钠和甲醇水溶 液 (50:50)组成 。使用反相柱 ChromSpher C8,其流动相流速 为每分 钟 0.5 m I。测试在波长 280nm处进行。 毒性评价 这种新的遮光剂对皮肤和粘 膜无刺激性。有研究表明,事实上 甚 至在皮肤刺激累积试验 中也完 全未表现出刺激性 (该试验是将 含有4.0%此种产品的膏剂用于剃 毛后的兔皮肤上持续作用21天 )。 对粘膜的刺激性试验是使用含 5.0%该产品的样品。应用鼠伤寒 沙门菌的回复突变检测进行有机 体无诱导突变试验。研究表明,其 任何剂量都未在鼠伤寒沙门菌菌 株 中诱导突变 (见 TA 97a、TA 98、TA100、TA102和TA1537)。 在对豚鼠进行的试验中没有发现 该产品具有光刺激性或光敏性。 同时,用含2.0%该产品的霜剂对 志愿 者进 行 皮肤接 触 重复试 验 (RIPT)【7】,表明它非常安全。基 于 以上大量 的毒性试验,可以认 为Galaxy—SunBe~作为人体护肤 产品是很安全的。 亲和 性 Galaxy—SunBeat用于头发 比一般水溶性紫外吸收剂更具亲 和性。例如,根据已发表的研究方 法【8】可以将它与2一苯基苯并咪唑一 5一磺酸钠进行比较,发现了前者 遮 光 齐I_1 防 晒 护 理 (38mg/1 00g头发 )比后者 (16rag/100g头发 )的亲和性强 2倍。 色彩保护 在水 溶性 紫外线 过滤 剂 中 Galaxy—SunBe~能非常有效地 保护个人护理产品的颜色。这可 通过它与最常用的紫外线吸收剂 二苯甲酮一4进行颜色保护性能的 比较得到证实。此试验使用的光 敏颜料是 FD&C 绿 3号(CI号 42053)、 FD&C红 33号(ci号 17200)和孔雀绿 (CI号 42000)。 在 适 当 的 颜 料 水 溶 液 中 (5.0~50ppm)加入0.1%紫外线 吸收剂 。将新配制混合液的最大 波长吸收值看作 1 00%,并把它 暴露在阳光下一定时间,由于颜 色改变,吸收值就会下降 。对于酸 性品红 (红33号 ),6天后在最大 波长530nm处测得其色彩强度下 降了几乎60%。加入了二苯甲酮一 4溶液,色彩强度下降40%,而加 入了 Galaxy—SunBeat溶液只下 降了 15% (图3)。 对 于 绿 3 号 , 颜 料 溶 液 (50ppm)暴露于阳光下 24小时 后,其最大波长624nm处的吸收 值下降了75%。加入二苯甲酮一4, 吸收值只下降25%,而加入新型 紫外吸收剂Galaxy—SunBeat,其 吸收值几乎没有下降 (图4)。由 此可见,无紫外吸收剂或加入二 苯甲酮一4的颜料水溶液都有褪色 反应,但加入 Galaxy—SunBeat 则完全不褪色 。 另 一 种 颜 料 孔 雀 绿 , 5.0ppm的颜料溶液在暴露于阳 光下 1 2天后测得在最大波长 620nm和另一波长 425nm处吸 sPC 2003年 11月 15 维普资讯 http://www.cqvip.com 防 晒 护 理 遮 光 剂 收值都下降了30%。加入二苯 甲 酮-4,1 2天后吸收值下降了41%: 加入Galaxy-SunBeat,只下降了 8% (图5)。有阴离子表面活性剂 存在时也得到同样的结果。 以上结果表明,这种新的甜 菜碱紫外吸收剂对 甲氧基苯 乙烯 基丙基羟基甜菜碱 比其它水溶性 遮光剂具有更好的亲和性,因此 16 2003年 11月 SPC China 能够作为一种护发和护肤的有效 光保护剂 。此外,它与常用化妆品 原料的相容性 以及 自身的溶解性 能使其容易加入 到配方中。特别 重要的是,该产品与二苯 甲酮 -4 相 比具有更优越的颜色保护性能, 同时也可与广泛使用的化妆品颜 料相容,因此也能作为个人护理 产品中的颜色保护剂 。 产品配方 由于这种水溶性遮光剂能与 大多数化妆 品原料相容,因此事 实上每种可加入水溶性紫外吸收 剂的化妆品配方中都可以加入该 产品。这里举一种膏剂 、一种凝胶 和一种洗发剂为例。 感谢: 作 者 感 谢 以 下 同事 :A . Jawale、B.Parab、S.Bagul和 S.Nashte 参考文献: 【1】M.M.Rieger。Cosmet.Toilet- ries。1 02(3),91,(1 987);L.Taylor, Skin Cancer Foundation JournaI. 4,(90)(1986) 【2]R.Beyak,G.S.Kass and C.F. Meyer。J.Soc.Cosmet.Chem.,P. 67-668,22(1971),E.Hoting,M. Zimmermann and H.Hocker。J. Soc.Cosmet.Chem.,P.85-99,46 (1995) [3][Encyclopedia of UV-absorbers. K.Klein and D.Stienberg in Sun Products:Protection and Tanning, P.1-65,Allured publishing。Carol Stream,IL,USA(1 998) 【4]Evolution of modern sunscreen chemicals.N.A.Shaath.Pg 1 2& 1 6 in‘Sunscreens,development, evaIuations and regUIatory as- pects‘.Ed.N.J.Lowe.N.D Shaath and M.A.Pathak,Cosmetics Sci- ence and Technology Series,Vo1. 1 5,MarceI Dekker(1 997) 【5]w.Johncock,Cosmetics&Toi- letries,P.75-81,1 14(1998) 【6】US Patent NO.6,531,628 (2003) 【7】Cutest Systems Ltd.,21 4, W hitchurch Road,Heath,Cardiff CF 14 3ND.UK 【8】P.Vanemon, Cosmetics&Toi- letries,P.77-78, 113(1998) 请联系: NirmaI Koshti Galaxy Research Centre Navi Mumbai。India E-mail:nirmaI.ko shti@galaxysurfact ants.C0m 维普资讯 http://www.cqvip.com
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